プログラム
[基調講演,特別講演および受賞講演]
[口頭発表1日目AB会場] [口頭発表1日目CD会場] [口頭発表2日目] [口頭発表3日目] [国際セッション]
[ポスター発表1-96など] [ポスター発表97-195,251,257] [ポスター発表196-249,177]
プログラムの概要 総演題数402題(口頭129題,国際20題,ポスター253題)
口頭発表
6月20日(水) 1日目
A会場 |
B会場 |
C会場 |
D会場 |
E会場 |
ポスター会場 |
企業展示 |
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8:00〜 |
受付(〜17:30) |
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9:00〜
〜12:00 |
一般発表 ダイオキシン (生体レベル) |
一般発表 PCB・POPs(分析法) |
一般発表 内分泌かく乱物質(環境レベル・処理) |
一般発表 重金属微量元素(環境レベル等) |
国際セッション 休憩 1E6〜9 |
ポスター準備/掲示 |
企業 展示 終日 |
ダイオキシン (クロスチェック・その他) |
PCB・POPs(分析法) |
内分泌かく乱物質/炭化水素・PAH(分解・処理) |
重金属微量元素(分析・動態) |
ポスター掲示 (2日間終日) |
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ダイオキシン (処理) |
PCB・POPs(分析法・生体レベル) |
PAH・農薬(分析・環境レベル) |
重金属微量元素(動態等) |
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12:10〜 12:20 |
ランチョンセミナー・弁当 準備 |
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12:20 〜13:20 |
ランチョンセミナー・昼食 |
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13:20〜 〜14:50 |
ポスターセッション コアタイム13:30〜14:30 |
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14:50〜 〜15:35 |
一般発表 ダイオキシン (分析法) |
一般発表 PCB・POPs(生体レベル等) |
一般発表 PAH・農薬(分析・分解) |
一般発表 重金属微量元素(動態等) |
国際セッション |
ポスター掲示 (2日間終日) |
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休憩 |
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16:00〜 〜16:50 |
基調講演T(メインホール) |
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16:50〜 〜17:30 |
特別講演T(メインホール) |
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休憩 |
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18:00〜 〜21:30 |
ナイトミーティング |
6月21日(木) 2日目
A会場 |
B会場 |
C会場 |
D会場 |
E会場 |
ポスター会場 |
企業展示 |
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8:00〜 |
受付(〜17:30) |
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8:30〜
〜11:30 |
一般発表 その他の有機ハロゲン化合物(分析) |
一般発表 医薬品/その他(分析法・環境レベル) |
一般発表 PCB・POPs/農薬(環境レベル・動態) |
一般発表 重金属微量元素(分析) |
国際セッション 2E-4〜6 休憩 2E6〜9 |
ポスター掲示 (2日間終日) |
企業 展示 終日 |
臭素系難燃剤 (分析法・環境レベル) |
医薬品(動態) |
PCB・POPs/農薬・炭化水素・PAH(分析) |
重金属微量元素(生体レベル) |
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臭素系難燃剤 (生体レベル等) |
VOC(分析・環境レベル) |
農薬・炭化水素・PAH(分析・環境レベル) |
重金属微量元素(生体・環境レベル) |
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11:40〜 11:50 |
ランチョンセミナー・弁当 準備 |
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11:50〜 〜12:50 |
ランチョンセミナー(33会議室でも開催)・昼食 |
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12:50〜 〜14:20 |
ポスターセッション コアタイム13:00〜14:00 |
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14:30〜 〜15:20 |
基調講演U(メインホール) |
ポスター掲示 (2日間終日) |
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15:20〜 〜16:00 |
特別講演U(メインホール) |
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16:00〜 〜17:30 |
受賞講演(メインホール) |
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17:30〜 〜18:20 |
表彰式,総会(メインホール) |
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ポスター撤去 〜18:00 |
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懇親会場へ移動 |
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18:30〜 〜20:30 |
懇親会(小倉ステーションホテル 5階 飛翔の間) |
6月22日(金) 3日目
A会場 |
B会場 |
C会場 |
企業展示 |
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8:00〜 |
受付(〜11:00) |
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9:00〜
〜10:00 |
一般発表 その他(毒性・分解) |
一般発表 |
一般発表 重金属微量元素/その他(分解) |
企業 展示 |
〜11:00 |
その他(物性・分解) |
農薬・炭化水素・PAH/その他(分析法等) |
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〜11:30 |
その他(物性) |
ポスター発表の概要 (2日間終日掲示)
6月20日(水) 1日目,P-奇数番号,時間 13:20〜14:50 (コアタイム 13:30〜14:30)
6月21日(木) 2日目,P-偶数番号,時間 12:50〜14:20 (コアタイム 13:00〜14:00)
番号 |
発表分類 |
P 1〜7 |
ダイオキシン類 サンプリング・前処理技術 |
P 8〜14 |
ダイオキシン類 環境レベル |
P 15〜23 |
ダイオキシン類 簡易分析 |
P 24〜29 |
ダイオキシン類 機器分析技術,精度管理,生体レベル,その他 |
P 30〜36, 254〜256 |
ダイオキシン類 発生源・処理技術 |
P 37〜47 |
PCB・POPs 環境レベル |
P 48〜54 |
PCB・POPs 簡易分析 |
P 55〜60 |
PCB・POPs サンプリング・前処理技術,機器分析技術 |
P 61〜73,252 |
PCB・POPs 生体レベル,暴露・毒性・生体影響,リスク評価,発生源・処理技術 |
P 74〜83 |
臭素化難燃剤 |
P 84〜91 |
その他有機ハロゲン化合物 環境レベル |
P 92〜96,250,258 |
その他有機ハロゲン化合物 機器分析技術,暴露・毒性・生体影響,発生源・処理技術 |
P 97〜106 |
内分泌かく乱物質 サンプリング・前処理技術,環境レベル,機器分析技術,精度管理 |
P 107〜118,253 |
内分泌かく乱物質 暴露・毒性・生体影響,発生源・処理技術,その他 |
P 119〜127 |
農薬・炭化水素・PAH サンプリング・前処理技術 |
P 128〜141 |
農薬・炭化水素・PAH 環境レベル |
P 142〜153 |
農薬・炭化水素・PAH 機器分析技術 |
P 154〜166 |
農薬・炭化水素・PAH,その他 一斉分析,データベース |
P 167〜176,257 |
農薬・炭化水素・PAH,その他 簡易分析,生体レベル,暴露・毒性・生体影響,リスク評価,その他 |
P 178〜184,251 |
VOC サンプリング・前処理技術,環境レベル |
P 185〜191 |
VOC 簡易分析,機器分析技術 |
P 192〜195 |
VOC 暴露・毒性・生体影響,発生源・処理技術,その他 |
P 196〜197 |
有機金属化合物 有機スズ化合物 |
P 198〜206 |
重金属・微量元素 環境レベル |
P 207〜213 |
重金属・微量元素 機器分析技術,サンプリング・前処理技術 |
P 214〜221 |
重金属・微量元素 生体レベル,暴露・毒性・生体影響,発生源・処理技術,その他 |
P 222〜230,177 |
PPCP 環境レベル |
P 231〜243 |
その他 機器分析技術 LC/MS他 |
P 244〜249 |
その他 簡易分析,サンプリング・前処理技術,生体レベル,発生源・処理技術,その他 |