キーワード

 　チャンバー壁面のガス放出機能と真空ポンプの排気機能との類似性
　はじめに
1-1チャンバー壁面のガス放出機能と真空ポンプの排気機能との類似性
1-1.1鋳物の巣
1-1.2陽極酸化アルミニウムの表面
 　
1-2各種表面処理を施したステンレス鋼板の表面性状（N. Yoshimura et al.,1990, 1991 から）
1-3光輝焼鈍と電解研磨のステンレス鋼表面の観察と分析（A. Tohyama et al.,1990 から）
　第1章のおわりに
　

 　表面による残留ガスの収着と表面からのガスの脱離
　はじめに
2-1平衡吸着（P. A. Redhead et al., 1968 から）
2-2ガス放出特性
2-2.1半経験的な式（B. B. Dayton, 1959 から）
2-2.2金属の表面酸化層からのガス放出（B. B. Dayton, 1961 から）
2-2.3考察：直線のように見える圧力上昇曲線（N. Yoshimura, 2009 から）
2-3ガス放出の過渡現象
2-3.1ガス放出量はガス脱離速度とガス収着速度の差
2-3.21 回目と2 回目のポンプダウン（K. W. Rogers, 1963 から）
2-3.3ベーク前後のガス放出（Dayton, 1962 から）
2-3.4排気弁の開閉を繰り返したときの圧力上昇特性（N. Yoshimura, 1991 から）
 　
2-4拡散メカニズム
2-4.1真の表面積（A. Schram, 1963 から）
2-4.2ガス放出における温度効果（R. Calder and G. Lewin, 1967 から）
2-4.3拡散ガス放出によるガス分圧の見積もり（D. J. Santeler, 1992 から）
2-4.4金属表面からのH2O 放出のモデル（M. Li and H. F. Dylla，1993 から）
2-5再結合制限ガス放出（B. C. Moore, 1995 から）
2-6真空材料としてのステンレス鋼表面（R. O. Adams, 1983 から）
　第2章のおわりに
　

 　ガス放出量の測定方法
　はじめに
3-1オリフィス法
3-1.1B. B. Dayton（ 1959）のオリフィス法
3-1.2A. Schram （1963）のオリフィス法
3-1.3A. Berman et al.,（ 1971） の可変コンダクタンス法
3-1.4K. Terada et al.（ 1989）のコンダクタンスモジュレーション法
3-2差動的圧力上昇法（N. Yoshimura et al., 1970, 1985 から）
 　
3-3パイプ3―ゲージ法（D. F. Munro and T. Tom, 1965 から）
3-4新しいパイプ３点圧力法（H. Hirano and N. Yoshimura, 1986 から）
3-5新しいパイプ3 点圧力法によるガス流量の測定（H. Hirano and N. Yoshimura, 1987 から）
3-6新しいパイプ2 点圧力法とパイプ1 点圧力法（N. Yoshimura and H. Hirano, 1986 から）
3-7ゲージ間の相対的感度補正
　第3章のおわりに
　

 　ガス放出量や透過係数などのデータ
　はじめに
4-1構成材料のガス放出量や透過係数
4-1.1B. B. Dayton（ 1959）のデータ
4-1.2N. Yoshimura et al.（ 1970） のデータ
4-2超高真空チャンバー構成材料のガス放出量やガス透過量
4-2.1ステンレス鋼，軟鋼，クロムメッキされた軟鋼のガス放出量（Y. Ishimori et al., 1971 から）
4-2.2超高真空チャンバー材料のガス放出量
4-3エラストマーシールのガス透過とガス放出
4-3.1ダブルＯリングシールによる水の透過の防止（L. de Csernatony and D. J. Crawley, 1967 から）
 　
4-3.2バイトンＯリングシールの水の透過（N. Yoshimura, 1989 から）
4-3.3エラストマーシールの最近の進歩（L. de Chernatony, 1977 から）
4-4エラストマーシールの選択（R. N. Peacock, 1980 から）
4-5バイトンO リングのフレオンガス雰囲気中での膨潤（N. Yoshimura, 2014 から）
4-6元素の蒸気圧（R. E. Honig, 1957 から）
　第4章のおわりに
　

 　電子励起ガス脱離と光励起ガス脱離
　はじめに
5-1電子励起ガス脱離
5-1.1M. H. Achard et al.（ 1979）のデータ
5-1.2Gómez-Goñi and A. G. Mathewson（1997）のデータ
 　
5-2光励起ガス脱離
5-2.1S. Ueda et.al.（ 1990）のデータ
　第5章のおわりに
　

 　微小電子プローブ照射で起こるコンタミネーションの堆積
　はじめに
6-1コンタミとなるハイドロカーボン分子の源と移動のプロセス
6-1.1A. E. Ennos （1953）の実験と考察
6-1.2R. W. Christy の実験と理論
6-2微小電子プローブ照射で起こるコンタミ堆積のメカニズム
6-2.1微小電子プローブ照射実験（N. Yoshimura et al. 1983 から）
6-2.2実験結果（N. Yoshimura et al. 1983 から）
6-2.3討論（N. Yoshimura et al. 1983 から）
6-3電子線プローブ照射で起こるSEM 像の暗化
 　
6-3.1C. Le Gressus et al.（ 1979）の実験
6-4電子顕微鏡における炭素系試料のエッチング
6-4.1H. G. Heide （1962）の実験
6-5各種真空用油の汚染源としての評価
6-5.1N. Yoshimura et al.（ 1970）の実験
6-5.2Fluorocarbon oxide fl uid の評価（B. K. Ambrose et al., 1972 から）
6-6Perfl uoropolyether
6-6.1L. Holland et. al.（ 1973）の論文
　第6章のおわりに
　

 　分子流コンダクタンスとガスフローパターン
　はじめに
7-1導管やオリフィスの分子流コンダクタンス
7-2ガス通過確率
7-2.1D. H. Davis の通過確率 （1960）
7-2.2L. L. Levenson et al., の通過確率 ［7-2］
7-3ガスフローパターン
 　
7-3.1B. B. Dayton （1956）のガスフローパターン
7-3.2K. Nanbu （1985）のガスフローパターン
7-3.3Tu Ji-Yuan （1988）のガスフローパターン
7-4W. Steckelmacher（1966）のレビュー論文から
　第7章のおわりに
　

 　分子流ネットワーク解析
　はじめに
8-1ガス放出源と真空ポンプの機能の類似性（N. Yoshimura, 1990 から）
8-2ガス放出源の特性値（N. Yoshimura, 1985 から）
8-3分子流ネットワーク理論の長い歴史
8-3.1B. R. F. Kendall のコメント（B. R. F. Kendall, 1983 から）
8-3.22 つの異種ポンプで並列排気する真空システムの等価ネットワーク（B. R. F. Kendall, 1968 から）
 　
8-3.3J. Aitken（1953）のシミュレータ回路
8-3.4ネットワークシミュレータのさらなる応用（D. W. Stops, 1953 から）
8-4真空系の一取扱法：排気系の並列運転について（S. Ohta, 1962 から）
8-5電子顕微鏡高真空システムの圧力分布シミュレーション（S. Ohta, N. Yoshimura, and H. Hirano, 1983 から）
8-6分子流領域圧力のコンピュータ解析（Hirano et al., 1988 から）
　第8章のおわりに
　

 　スパッタイオンポンプとゲッターポンプの基礎
　はじめに
9-1スパッタイオンポンプ
9-1.1スパッタイオンポンプの物理（R. I. Jepsen , 1968 から）
9-1.2超高真空用のスパッタイオンポンプ（S. L. Rutherford, 1964 から）
9-1.3スパッタイオンポンプの開発（D. Andrew, 1968 から）
9-1.4二極型ゲッターイオンポンプによる，安定した空気排気（R. L. Jepsen et al.,1960 から）
9-1.5二極型ペニングポンプの不活性ガス排気のメカニズム（P. N. Baker and L. Laurenson, 1972 から）
9-1.6スパッタイオンポンプの希ガス排気性能の向上（S. Komiya and N. Yagi, 1969 から）
 　
9-1.7スパッタイオンポンプによるHe 排気とH2 排気（K. M. Welch, D. J. Pate, and R. J. Todd, 1993, 1994 から）
9-2チタンサブリメーションポンプ
9-2.1レビュー：Ti 膜の付着係数と収着容量（D. J. Harra, 1976 から）
9-2.2Ti サブリメーションポンプからのメタンガス放出（D. Edwards, Jr, 1980 から）
9-3非蒸発型ゲッターポンプ
9-3.1St707 非蒸発ゲッター（Zr 70 V 24.6-Fe 5.4 wt％）の排気特性（C. Benvenuti and P. Chiggiato, 1996 から）
9-3.2コンパクトなチタン―バナジウム非蒸発ゲッターポンプの設計と排気特性（Y. Li et al., 1998 から）
　第9章のおわりに
　

 　スパッタイオンポンプの開発
　はじめに
10-1超高真空スパッタイオンポンプ
10-1.1高磁束密度スパッタイオンポンプの超高真空での排気特性（K. Ohara et al., 1992 から）
10-2ノーブル型超高真空スパッタイオンポンプ
10-2.1種々の形状の“Ta/Ti”カソード対をもつスパッタイオンポンプのアルゴン排気特性（N. Yoshimura et al., 1992 から）
 　
10-3キセノン（Xe）が排気可能なノーブル型スパッタイオンポンプ
10-3.1“ Slotted Ta on fl at Ti/“slotted Ta on fl at Ti”カソード対のポンプによるXe の排気（N. Yoshimura, 2013 から）
　第10章のおわりに
　

 　超高真空ゲージとマススペクトロメータ
　はじめに
11-1エクストラクタゲージ（EG）とBA ゲージ（BAG）
11-1.1低い残留電流の熱フィラメント電離真空計（P. A. Readhead, 1966 から）
11-1.2BAG とEG の圧力指示値の比較（U. Beeck and G. Reich, 1972 から）
11-1.3超高真空の全圧の測定（G. F. Weston, 1979 から）
11-2UHV スパッタイオンポンプのイオン電流対圧力特性（N. Yoshimura et al., 1992［11-4］から）
 　
11-3残留ガス分析計
11-3.1G. F. Weston（1980）の論文
11-4超高真空ゲージでの諸現象
11-4.1BA ゲージとエクストラクタゲージ（EG, ヌード型）からのガス放出（N. Yoshimura et al., 1991 から）
　第11章のおわりに
　

 　振動の少ない超高真空油拡散ポンプと関連機器の開発
　はじめに
12-1振動の少ない超高真空油拡散ポンプと水冷バッフルの開発
12-1.1DP 技術の進展（M. H. Hablanian and J. C. Maliakal, 1973 から）
12-1.2軟鋼肉厚パイプ（3 mmt，Ni メッキ）のポンプボディーをもつ超高真空用油拡散ポンプの開発
 　
12-1.3コールドキャップ付きシェブロンバッフルの開発
12-2DP 排気系のクリーン排気特性（S. Norioka and N. Yoshimura, 1991 から）
12-3液体窒素保持時間の長い冷却トラップの開発（H. Hirano and N. Yoshimura, 1981 から）
　第12章のおわりに
　

 　スイッチオーバー排気時に耐性を示す，ダイナミックな排気系
　はじめに
13-1高真空システムにおける過負荷を阻止するには（M. H. Hablanian, 1992 から）
13-1.1体積流れと質量流れ
13-1.2クロスオーバー圧力とは？
13-2高電子顕微鏡のカスケード接続油拡散ポンプ排気系（N. Yoshimura et al.,1984 から）
13-2.1DP1-DP2 直列系
13-2.2スイッチオーバー時の過大ガス負荷に耐性のあるDP 排気系
13-2.3電子顕微鏡のカスケード接続油拡散ポンプ排気系
13-2.4カスケード接続油拡散ポンプ排気系を保護する安全システム
 　
13-3積層積み重ね油拡散ポンプグループの到達真空に及ぼすインレットバルブの影響（N. T. M. Dennis 1982 から）
13-3.1インレットバルブのガス放出
13-3.2インレットバルブの運転
13-4過大ガス負荷を抑制する先行低速度高真空排気（N. Yoshimura, 2009 から）
13-4.1ガス放出の過渡現象
13-4.2スイッチオーバー直後の過大ガス負荷
13-4.3過大ガス負荷問題を解決する先行低速度高真空排気
13-5ターボ分子ポンプ排気系
　第13章のおわりに
　結び
　
レビュー　超高真空技術の新展開　
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