■開催日時：2024年07月22日(月) 10:30〜16:30
■会場：【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます
■定員：30名
■受講料：55,000円（税込、資料付き／1人）
※最新のセミナー情報を「配信可」にすると割引適用（登録無料）
会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で55,000円（税込）から
・1名で申込の場合、44,000円（税込）へ割引になります。
・2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円（2人目無料）です。
■備考：
資料付き
【LIVE配信セミナーとは？】
■主催：（株）R&D支援センター
■講師：大阪大学 工学研究科 マテリアル生産科学専攻
教授 理学博士・Ph.D. 浜口 智志 氏
【略歴】
1982年 東京大学理学部物理学科卒業
1987年 同大学院理学系研究科物理学専攻博士課程修了
1988年 ニューヨーク大学大学院数学科博士課程修了
1988年-1990年 テキサス大学物理学科核融合研究所・研究員
1990年-1998年 IBM ワトソン研究所・主任研究員
1998年-2004年 京都大学エネルギー科学研究科・助教授
2004年-現在 大阪大学工学研究科・教授
【学会活動等】
国際真空科学技術応用国際連合（IUVSTA）プラズマ科学技術分科会(PSTD)長（2019-2021)、
Journal of Plasma Medicine 編集委員長（2019-現在）、プラズマ医療国際学会（IPMS)会長
（2015-2016）、米国真空学会(AVS) プラズマ科学技術分科会(PSTD)分科会長（2014）等歴任:
米国物理学会（APS）フェロー、米国真空学会（AVS）フェロー、応用物理学会（JSAP）フェロー
■受講対象・レベル：
半導体プロセスや関連ガス、材料に関する研究開発・生産製造に携わる方
（初心者から中級者まで）
■習得できる知識：
・エッチング用プラズマ装置の基礎
・プラズマエッチングにおける物質表面化学反応の基礎
・反応性イオンエッチング、プラズマ支援原子層エッチング（PA-ALE）、熱原子層エッチング
（thermal ALE）の特徴と応用
■趣旨：
本講座では、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学
原理から解説する。具体的には、ドライエッチングに用いられるプラズマ装置、装置内のプラズマの
構造やダイナミクス、気相反応、および、反応性イオンエッチング（RIE）から、近年注目を集める
原子層エッチング（ALE）にわたるドライエッチング技術に関して、プラズマ物質相互作用の物理機
構から最新技術動向まで、詳しく紹介する。関連項目として、プラズマＣＶＤと原子層堆積（ALD)
プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション
（DX)の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内
容を目指す。
■プログラム：
1.背景
2.プラズマ科学の基礎
3.代表的なプラズマプロセス装置
a.容量結合型プラズマ（CCP）装置
b.誘導結合型プラズマ（ICP）装置
4.反応性イオンエッチング（RIE）の基礎
a.プラズマ表面相互作用
b.表面帯電効果
c.シリコン系材料エッチング反応機構
d.金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
e.高アスペクト比（HAR)エッチング概要
5.プラズマCVD概要：原子層堆積（ALD)の基礎として
6.ALDプロセスの概要：原子層エッチング（ALE）の逆過程として
a.熱ALD
b.プラズマ支援(PA-)ALD
7.ALEプロセスの概要と最新技術動向
a.PA-ALE
b.熱ALE：リガンド交換
c.熱ALE：金属錯体形成
8.半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション（DX)
9.まとめ
＜質疑応答＞
|
