■日時：2024年07月25日(木) 13:00〜17:00
■会場：※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です
※ お申込み時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ず、ご確認ください。
■定員：30名
■受講料：45,100円(税込、資料作成費用を含む)
※複数でのご参加を希望される場合、お申込み追加1名ごとに16,500円が加算となります
■主催：(株)AndTech
■講師：
産業技術総合研究所 材料・化学領域 ナノ材料研究部門 /
副研究部門長 依田 智 氏
■講演主旨：
二酸化炭素は高圧下では有機溶媒のように用いることができ、無毒、不燃、高い拡散性（微細な
空間に入り込める）、環境調和性など多くのメリットを有します。このような状態の二酸化炭素は
超臨界二酸化炭素（超臨界CO2）と呼ばれ、20年ほど前に研究の一大ブームがありました。最近、
半導体などの先端材料製造プロセス、機能性食品や医薬品、医療材料の分野で改めてそのポテン
シャルが見直され、新たに取り組みを始める企業や技術者の方も増えています。一方、高圧を使う
プロセスであることから、導入には技術的、心理的なハードルを感じておられる方も多いと思いま
す。
本セミナーでは、新たに超臨界CO2の活用をお考えの方に、その基本とできること、導入にあたり
注意すべき点などをわかりやすく解説します。また、様々な分野における研究や実用化の具体的事
例を紹介します。
■習得できる知識：
・超臨界CO2の基礎：その定義と物理化学的特徴
・超臨界CO2で何ができるか：抽出、含浸、乾燥、洗浄、発泡など
・超臨界CO2を使うために必要な装置
・超臨界CO2と高圧ガス保安法
・超臨界CO2の実用材料・プロセスでの活用事例
■プログラム：
1 超臨界流体の基礎：定義と物理化学的特徴
2 超臨界CO2で何ができるか
2.1 有機溶媒フリーの抽出、分離（食品、薬品）
2.2 有機溶媒フリーの含浸・染色（食品、薬品、アパレル）
2.3 微粒子製造、成膜、コーティング（薬剤、半導体、デバイス）
2.4 応力のかからない乾燥（半導体、機能性材料、デバイス）
2.5 微細な空間の洗浄、物質導入（半導体、デバイス、触媒）
2.6 ポリマー成型加工（発泡、射出成形）
3 超臨界CO2を使うための装置と法規
3.1 ラボスケール
3.2 実用スケール
3.3 高圧ガス保安法と海外の法規制
4 研究と実用化の事例紹介
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