◆二次元から三次元へ....微細化の限界を突破! 半導体の性能を大きく向上させる3次元実装技術! ◆最新の後工程プロセスや関連技術について徹底的に詳説! ◆図解等を交えながら、複雑な組立やテストプロセスの詳細を 分かりやすく解説!
■監修者 福島 誉史(東北大学) ■主な目次 序 論 三次元積層技術の展望と課題 第1章 設計技術 第2章 TSV(シリコン貫通電極) 第3章 接合技術 第4章 インターポーザー 第5章 アプリケーション 第6章 関連材料 第7章 信頼性 ※ 【口絵・序論】をブラウザ上でご覧いただけます。 ※ 全文試読は【デジふろ】よりご利用下さい。(ご登録が必要です)