半導体微細パターニング技術とリソグラフィ　岡崎　信次 1 はじめに 2 微細化の指針とその効果 　 3 光リソグラフィ技術の発展とその限界 4 ポスト光リソグラフィ技術と今後の展開 　 　光リソグラフィ技術 第1章 露光装置 柴�ｱ　祐一 1 光露光装置概要 2 露光装置を構成する技術 3 今後の光露光装置に求められるもの 第2章 エキシマレーザ光源 松永　隆，太田　毅 1 はじめに 2 光リソグラフィにおけるエキシマレーザ光源 3 ArFエキシマレーザの基本技術 4 最新技術動向 5 最新多重露光プロセス対応ArFエキシマレーザ　GT64A 6 おわりに 第3章 超解像技術、位相シフト技術と変形照明技術 渋谷　眞人 1 はじめに 　 2 投影露光装置光学系の基本的構成と結像 3 変形照明技術（斜入射照明法） 4 位相シフトマスク技術 第4章 マスク技術とＳＭＯ技術 第1節 フォトマスク技術 林　直也 1 はじめに 2 フォトマスクの成り立ち 3 フォトマスクの構造 4 フォトマスク製造工程 5 フォトマスクの課題と今後 第2節 SMO (Source Mask Optimization)技術 斉藤　康子 1 SMOとは 2 ASMLのSMO技術 3 フルチップへの適用 4 まとめ 　 　ポスト光リソグラフィ技術 第1章 次世代リソグラフィ技術動向 石原　直 1 次世代リソグラフィ技術とは 2 EUVリソグラフィ技術 3 電子線描画技術 4 ナノインプリント技術 5 DSA (Directed Self-Assembly) 技術 第2章 ＥＵＶリソグラフィ技術 第1節 ＥＵＶ露光装置技術 宮崎　順二 1 はじめに 2 装置概要 3 装置性能 4 将来の高NA EUV露光システム 第2節 EUV干渉露光 渡邊　健夫 1 はじめに 2 EUV干渉露光 3 まとめ 第3節 ＥＵＶ光源技術 溝口　計，斎藤　隆志，山崎　卓 1 はじめに 2 ＥＵＶリソグラフィ 3 高出力ＥＵＶ光源の開発の経緯とコンセプト 4 最近の高出力ＥＵＶ光源開発の進展 5 ＥＵＶ光源パイロットシステムの開発 6 おわりに 第4節 EUVブランクス作製技術 笑喜　勉 1 はじめに 2 ガラス基板材料 3 サブストレート研磨プロセス 4 多層膜 5 吸収体・裏面膜 6 まとめ 第5節 マスク技術 小寺　豊 1 ＥＵＶマスクの構造 2 ＥＵＶマスクの製造工程 3 ＥＵＶマスクの遮光帯 4 ＥＵＶマスクの欠陥 5 ＥＵＶマスクの欠陥検査 6 ＥＵＶマスクの欠陥保証 7 ＥＵＶマスク用ペリクル 第3章 ナノインプリント技術 第1節 量産化に向けたナノインプリント技術 東木　達彦 1 はじめに 2 NAND フラッシュメモリの概要 3 次世代リソグラフィの選択 4 ナノインプリントのアライメント技術とオーバーレイ精度向上 5 欠陥低減とナノディフェクトマネージメント 6 おわりに 第2節 ナノインプリント装置技術 森本　修 1 はじめに 2 ナノインプリント装置開発の歴史 3 半導体ナノインプリント装置の仕組み 4 ナノインプリント装置の性能 5 マスク複製装置 6 ナノインプリント装置の今後 第3節 ナノインプリント・テンプレート技術 法元　盛久 1 テンプレートとは 2 マスターテンプレート技術 3 レプリカテンプレート技術 　 4 まとめ 第4節 ナノインプリントプロセス技術 河野　拓也 1 はじめに 2 NILの概要 3 光ナノインプリントの基本性能 4 光ナノインプリントを成功させるための周辺技術 5 おわりに 第5節 ナノインプリント材料技術 中川　勝 1 はじめに 2 光硬化性液体 3 その他の機能性材料 4 シングルナノ成形に向けた光硬化性液体 第6節 ナノインプリントリソグラフィシミュレーション技術 小林　幸子 1 はじめに 2 樹脂流動シミュレーション 3 UV硬化および離型挙動シミュレーション 4 NILシミュレーションを利用した製造性考慮設計 第4章 電子線描画技術と装置開発 第1節 可変成形ビーム型電子線描画装置 山田　章夫 1 はじめに 2 電子線描画装置のカラム構成と図形転写機能 3 電子線描画装置の描画例 4 おわりに 第2節 マルチビーム型電子線描画装置 中山田　憲昭，山下　浩 1 はじめに 2 開発の目的 3 描画方式の相違点 4 主要開発項目 5 スループット設計 6 描画結果 7 まとめ 第5章 誘導自己組織化(DSA)技術 第1節 DSA技術の概要 永原　誠司 1 はじめに 2 DSA技術に活用されるポリマーの自己組織化 3 DSAプロセスの基本ステップ 4 DSA関連材料 5 DSAのプロセスシミュレーション 6 DSA技術の優位点と課題 7 まとめ 第2節 ラインアンドスペース対応DSA技術 東　司 1 はじめに 2 物理ガイドプロセスと化学ガイドプロセス 3 ハーフピッチ15 nmラインアンドスペース対応DSA技術 4 ハーフピッチ10 nm以細ラインアンドスペース対応DSA技術 5 まとめ 第3節 ホール対応DSA技術 清野　由里子 1 はじめに 2 DSAホールシュリンクプロセス技術 3 DSA適用ビアチェーンの電気的歩留まり検証 4 まとめ 　 　レジスト材料技術 第1章 レジスト材料の開発動向 上野　巧 1 はじめに 2 リソグラフィ・レジストの転換点 3 露光波長の短波長化とレジストの光吸収 4 現像液の変遷 5 レジスト感光機構の変遷およびコントラスト向上 6 解像限界と分子サイズの考察 7 まとめ 第2章 化学増幅型レジスト材料技術 第1節 DUVリソグラフィー用対応フォトレジスト材料技 下畠　孝二 1 はじめに 2 ポジ型化学増幅レジスト−ＫｒＦエキシマレーザー用− 3 ポジ型化学増幅レジスト−ＡｒＦエキシマレーザー用− 4 ArFレジスト ネガ画像形成方式 5 おわりに 第2節 EUVリソグラフィ用フォトレジスト技術 成岡　岳彦，中川　泰志 　 1 はじめに 2 有機ポリマーをマトリクスにした化学増幅型EUVレジスト 3 低分子化合物を用いた化学増幅型EUVレジスト 4 EUVレジストの高感度化に向けた新規プロセス 5 まとめ 第3節 金属含有型レジスト材料技術 鳥海　実 1 初期の金属含有型レジスト 2 EUVリソグラフィー用金属含有型レジストの特徴 3 Cornell University、The University of Queensland、(株)EUVL基盤開発センターの金属含有型レジスト 4 金属含有型レジストとして評価された化合物 5 Oregon State University、Inpria、Interuniversity Microelectronics Centreの金属含有型レジスト 6 その他の金属含有型レジスト 7 金属含有型レジストの高機能化 　 　マルチパターニング技術 第1章 マルチパターニングの技術動向 八重樫　英民 1 マルチパターニングの分類と特徴 2 マルチパターニングの解像実証結果と技術課題 3 マルチパターニングの応用技術 4 マルチパターニングに関連した周辺技術 5 まとめ 　 第2章 マルチパターンニングにおけるデポジション技術とエッチング技術 野尻　一男 1 マルチパターニングにおけるデポジション技術とエッチング技術の役割 2 デポジション技術 3 エッチング技術 4 おわりに 　 　計測評価技術 第1章 CD-SEM技術 杉本　有俊 1 はじめに 2 CD-SEM計測の対象と目的 3 CD-SEM計測技術の概要 4 Line Edge Roughness（LER）の計測 5 Design Based　Meteorology 6 CD-SEMの高速化が拓く新しいアプリケーション 第2章 スキャトロメトリ（光波散乱計測） 白�ｱ　博公 1 はじめに 2 半導体リソグラフィ技術 3 反射散乱光を利用した測定技術 4 スキャトロメトリ 5 最適化手法 6 スキャトロメトリ解析の実例 　 7 あとがき 第3章 走査型プローブ顕微鏡技術 大田　昌弘 1 はじめに 2 AFMの原理 3 各種SPM手法 4 SPMの特長 5 SPMの応用例 6 まとめ 第4章 X線小角散乱法を用いた寸法および形状計測技術 伊藤　義泰 1 はじめに 2 X線散乱 3 X線小角散乱の測定法 4 測定例 5 まとめと今後の展望 　 　その他応用技術 第1章 MEMS技術の微細パターニングへの応用 江刺　正喜、戸津　健太郎、鈴木　裕輝夫、小島　明、池上　尚克、宮口　裕、越田　信義 1 はじめに 2 EUV光源用フィルタ 3 アクティブマトリックスnc-Si電子源による超並列電子ビーム描画 4 おわりに 第2章 最近の超先端エッチング技術の概要―原子層レベル超低損傷高精度エッチング― 寒川　誠二 　 1 はじめに 2 中性粒子ビーム生成装置 3 22nm世代以降の縦型フィントランジスタへの応用 4 無欠陥ナノ構造の作製とその特性 5 原子層レベル表面化学反応の制御 6 まとめ 　 　 　 半導体微細パターニング 〜限界を超えるポスト光リソグラフィ技術〜 Copyright　(C) 2017　NTS Inc. All right reserved.