日 時 |
2008年2月13日(水) 10:00〜16:45(受付:9:30から) |
会 場 |
江戸東京博物館1F 会議室
〒130-0015 東京都墨田区横綱1-4-1 TEL: 03-3626-9974(代表) |
主 催 |
日本環境化学会 |
参加費 |
会員 4,000円、非会員 8,000円 (予稿集代を含みます) |
定 員 |
120名(定員に達し次第締め切らせていただきます。) |
申込方法 |
講演会に参加される場合は,予約が必要です。下記のいずれかの方法で申し込んでください。
1.オンライン申し込みは,こちらからできます。
2.郵送またはFAXでの申し込みは,お手元の参加申込書あるいはダウンロード参加申込書にご
記入の上,日本環境化学会事務局までお送りください。
なお、非会員の方で会員として申し込みされる場合には,事前に本会にご入会下さい。
入会手続き等につきましては,事務局までご照会下さい。 |
申込先および 問合せ先 |
日本環境化学会事務局
〒305-0061 茨城県つくば市稲荷前24-10-A-101
TEL 029-852-9314 FAX 029-858-1565 E-mail:こちら |
プログラム |
09:30〜10:00 |
受 付 |
10:00〜10:05 |
開会あいさつ |
10:05〜11:15 |
VOC排出抑制の現状と今後の課題について
遠藤 小太郎 氏((社)産業環境管理協会) |
11:15〜12:00 |
VOC計測技術の動向と課題について
平野 耕一郎 氏(横浜市環境科学研究所) |
12:00〜13:15 |
昼 食 |
13:15〜14:05 |
塗装施設におけるVOC対策技術の課題と対策
平野 克己 氏(日本塗装機械工業会) |
14:05〜14:50 |
VOC吸着・回収技術の進歩と課題
安達 太起夫 氏(月島環境エンジニアリング(株)) |
14:50〜15:05 |
休 憩 |
15:05〜15:50 |
触媒技術を用いたVOC処理の現状
村山 恵二 氏(田中貴金属工業梶j |
15:50〜16:40 |
低温プラズマ/触媒によるVOC分解技術の進歩
尾形 敦 氏((独)産業技術総合研究所) |
16:40 |
閉会の挨拶 |
※ 都合により講演者等の変更の場合がありますのでご了承下さい。 |
会場案内 |
江戸東京博物館のホームページにてアクセスマップをご覧ください。 |